相控陣成像技術(shù)（TFM）--缺陷定性分析

       最近逛無(wú)損檢測(cè)論壇，看大家的發(fā)帖都是常規(guī)超聲技術(shù)，向大家分享一種相控陣成像技術(shù)--TFM（Total Focus Method）全聚焦方法，以及一些TFM成像的效果圖。想了解可以聯(lián)系我，我有一些相關(guān)資料。
1.        實(shí)時(shí)全聚焦成像技術(shù)
      全聚焦成像技術(shù)（TFM）通過(guò)特殊的的數(shù)據(jù)采集方法與成像技術(shù)能對(duì)缺陷進(jìn)行非常精確的成像。使得超聲檢測(cè)在缺陷定量及定性上更加的準(zhǔn)確。全聚焦技術(shù)采用了全矩陣捕捉法（FMC）對(duì)檢測(cè)區(qū)域進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。
    a)        基本原理
    FMC（全矩陣采集）是利用超聲相控陣探頭的一個(gè)特定的數(shù)據(jù)采集過(guò)程。對(duì)于一個(gè)N個(gè)晶片的陣列探頭，每個(gè)晶片依次激發(fā)，同時(shí)所有的晶片接收信號(hào)。這些數(shù)據(jù)被組織在一個(gè)包含所有采集信號(hào)矩陣S中。Sij表示的是由晶片i發(fā)射晶片j接收的A掃信號(hào)。全矩陣數(shù)據(jù)需要進(jìn)行后處理后來(lái)顯示檢測(cè)結(jié)果。全聚焦方法（TFM）就是一種用來(lái)處理FMC數(shù)據(jù)集的后處理算法。                                                                                             

      TFM是一種信號(hào)處理算法利用FMC模式所采集的數(shù)據(jù)。首先確定一個(gè)合理的檢測(cè)區(qū)域用于數(shù)據(jù)重建。然后將檢測(cè)區(qū)域進(jìn)行空間離散化成為一個(gè)網(wǎng)格，對(duì)于這個(gè)網(wǎng)格區(qū)域中的每一點(diǎn)，聚焦法則的計(jì)算都基于相控陣探頭的晶片位置。所有記錄的信號(hào)都是時(shí)移量，并且與每一個(gè)點(diǎn)相對(duì)與探頭發(fā)射和接收晶片的距離求和相對(duì)應(yīng)。當(dāng)檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的所有點(diǎn)重建完成時(shí)整個(gè)循環(huán)結(jié)束。
     下面是一些標(biāo)準(zhǔn)試塊（材料：鋼）上的檢測(cè)示例。它們驗(yàn)證了該算法的對(duì)缺陷高分辨率，尤其是出色的近場(chǎng)與遠(yuǎn)場(chǎng)分辨率。檢測(cè)使用的64陣元，頻率為5 MHz的線性相控陣探頭。成像結(jié)果更接近“X-射線”型超聲檢測(cè)。回波不用再通過(guò)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行辨識(shí)，缺陷輪廓清晰，使缺陷評(píng)估更加容易。

     

       B型試塊成像

      扇掃和TFM成像對(duì)比   

      

試塊           

     裂紋      

                                                                                                       0.2毫米氣孔缺陷
          以上的一些成像結(jié)果可以充分體現(xiàn)TFM在對(duì)缺陷定性分析中的作用，能對(duì)缺陷的更好的識(shí)別和判定。應(yīng)該是代表以后相控陣技術(shù)發(fā)展的方向。

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你好，能否發(fā)一份資料共同學(xué)習(xí)，郵箱[email protected]

ghost 發(fā)表于 2014-8-25 20:24
你好，能否發(fā)一份資料共同學(xué)習(xí)，郵箱

可以，一會(huì)發(fā)給你

謝謝，能不能發(fā)份給我啊[email protected]

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