減少曝光時(shí)間，可以減小散射線的影響么？

經(jīng)常在文章資料中，看到這么一句話“減少曝光時(shí)間，可以減小散射線的影響”。這句話正確么？

這句話不正確吧。

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我想是不對(duì)的！

我認(rèn)為是正確的。“可以”減小在實(shí)踐中能體現(xiàn)。不防護(hù)的情況下我拍過46厚的縱縫420千伏2分鐘底片合格，做了件呆事350千伏7分鐘就發(fā)現(xiàn)有散射線影響。

“減少曝光時(shí)間，可以減小散射線的影響”。應(yīng)該這樣理解：當(dāng)射線檢測(cè)工藝參數(shù)符合射線技術(shù)等級(jí)、底片要求時(shí)，采用最小的曝光時(shí)間。

橙子 發(fā)表于 2012-3-2 11:02
“減少曝光時(shí)間，可以減小散射線的影響”。應(yīng)該這樣理解：當(dāng)射線檢測(cè)工藝參數(shù)符合射線技術(shù)等級(jí)、底片要求時(shí) ...

同意{:soso_e163:}

不正確{:soso_e183:}

散射線分為兩個(gè)部分：來自工件的和透照?qǐng)鏊瓷涞纳⑸渚€。一般后者可通過屏蔽屏或減少透照?qǐng)鼋鉀Q問題，而來自工件本身的散射線是不容易去除的。根據(jù)三大效應(yīng)作用機(jī)理和大致的能量范圍，常規(guī)射線檢測(cè)電壓在100～300KV對(duì)應(yīng)的康普頓散射占主流，故檢測(cè)中對(duì)比度將受到散射線的削弱影響。此時(shí)使用鉛增感屏，一方面由于光電效應(yīng)產(chǎn)生大量的光電子，有利于曝光，同時(shí)過濾來自工件本身的散射線。
從此看，曝光時(shí)間并不影響我們的散射線。

同意丁工意見！迄今為止，在國(guó)際國(guó)內(nèi)權(quán)威資料上，找不到時(shí)間影響散射線的內(nèi)容！